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发布时间：2023-03-11 14:05
在制造芯片的过程中，需要使用到各种各样的机械设备，其中最关键的则是光刻机。光刻机根据制造工序的不同分为了前道光刻机和后道光刻机。前道光刻机用于前道工序，所以被称之为前道光刻机。而后道光刻机则是在芯片制造过程中用于芯片后期的封装，所以被称之为厚道光刻。前道光刻机对光刻机这一设备的精度要求非常高，所以按照精度可以分为DUV、EUV等光刻机。虽然后道光刻机也很重要，但是要求不一样，相对而言比较低一些，所以大家更为关注前道光刻机。那么光刻机现在能做到几纳米的芯片？光刻机现在多少纳米？不妨一起来看看吧！
众所周知，光刻机是制造芯片必不可少的重要设备，不过现在光刻机技术几乎都被荷兰的阿麦斯公司所垄断。目前全球最先进的光刻机已经能够实现5纳米的工艺制程了，它便是荷兰阿麦斯公司的极紫外光刻机，是如今全球最顶尖的光刻机设备。而国内最先进的光刻机是22纳米，该光刻机的关键部件已经可以实现国产化了，目前中国已经取得了14纳米芯片的量产。
现在全球最顶尖的芯片可以说是5纳米制程技术，不过3纳米制程已经在研发设计当中了。我国所享誉全世界的北斗全球定位导航卫星，其中所使用到的是三号芯片，可以说已经成功打破了22纳米的上限，如今我国上海微电子公司已经成功研制出生产22纳米芯片的光刻机了。
虽然之前我国国产光刻机一直停留在只能制造90纳米制程的芯片，但是目前直接从90纳米突破到了22纳米，这样一来就意味着我国在光刻机制造的某些关键核心领域已经实现了国产化，可以说国产光刻机这一关键设备的发展前景非常好。甚至还有小道消息称，我国上海微电子公司能够制造出生产28纳米和14纳米芯片的光刻机，由此可见，我国目前光刻机技术的发展已经取得了非常大的成就。
总而言之，目前我国生产出来的光刻机能够做到22纳米的芯片，而国际上顶尖的EUV光刻机能够生产出5纳米芯片。
Emily
