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中国什么时候能造出顶尖光刻机?我国能否制造光刻机?

发布时间:2022-07-06 15:01

近年来,美国持续对我国华为、中芯国际等高科技企业进行打压。我国华为企业因为受到芯片制裁被卡脖子,国内其它芯片厂商因为光刻机设备而被卡脖子,这样一来许多人开始重视起光刻机的重要性了。那么我国究竟什么时候能够制造出顶尖光刻机呢?不妨一起来看看吧!

 

 

 

目前,我国国内最大光刻机设备厂商便是上海微电子公司,已经开始量产90nm的光刻机了,可是跟全球顶级光刻机厂商ASMl差距实在是太大了,要知道ASML已经能够制造出EUV光刻机以及3nm制程的芯片了,我国上海微电子与它已经相隔了9个芯片的工艺制程了。其实在2007年的时候,上海微电子公司就已经制造出了90nm的光刻机样机,但是却用了九年多的时间才能够将其量产。主要原因就是因为当时虽然能够设计并制造出样机,但是想要实现量产还是有一定的困难的,毕竟当时我国科技水平还不是很高。

 

 

 

其实,我国在20世纪七十年代的时候就已经研发出来了光刻机,当时与发达国家的技术相差并不是很大,但是在90年代的时候以联想为代表的企业提出了一个“贸工技”的理念。所以当时很多人认为与其自己去制造光刻机,还不如从外国进口来的合适,这也就是为什么我国光刻机研发体系刚处于起步阶段就被喊停的原因,当时已经被国外设备厂商冲的七零八落了,可以说已经出现了断层。

 

 

 

如果国内想要制造出顶尖的光刻机,一定要供应充足的零部件以及大量的高科技人才。想要生产出顶尖的光刻机,有两个零部件是重要的,第一个便是镜头曝光系统,第二个便是激光光源。在我国长春光机所和相关单位的努力下,镜头曝光系统已经研发成功了,激光光源也在我国中科院的努力下攻克难关了。

 

总而言之,目前我国想要独立制造出顶尖的光刻机还是有一定的难度,但是中低端光刻机已经不在话下了。

 参考资料:中国什么时候能造出顶尖光刻机?我国能否制造光刻机?[中华网]


张总

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